Design del cabinet per azoto liquido

Design del cabinet per azoto liquido

Utilizzando setacci molecolari di carbonio importato di alta-qualità, il sistema PSA separa in modo efficiente l'azoto dall'aria ambiente assorbendo ossigeno, anidride carbonica e umidità, producendo azoto di elevata-purezza. L'azoto separato viene raffreddato a circa -196 gradi tramite un liquefattore dedicato (dotato di refrigerante misto o frigorifero a tubi a impulsi), convertendo l'azoto gassoso in azoto liquido.Tutti i componenti chiave - compreso il compressore d'aria, l'unità PSA, il liquefattore e il sistema di controllo - sono perfettamente integrati in un unico armadio, garantendo un funzionamento plug-semplice e plug-and-play.

Vantaggi fondamentali

 

Design compatto tutto-in-uno: Questo design massimizza l'efficienza dello spazio, rendendolo ideale per ambienti con area limitata.

 

Output stabile di alta-qualità: produce azoto liquido di elevata-purezza (maggiore o uguale al 99%) con un punto di rugiada dell'azoto di -60 gradi, garantendo prestazioni costanti per applicazioni critiche.

 

Efficienza energetica: Funziona a basso consumo energetico, il 30% in più di efficienza energetica-rispetto ai sistemi tradizionali, grazie alla tecnologia di risparmio energetico-proprietaria PSA di LDH.

 

Funzionamento a basso rumore: Mantiene un livello di rumore di<65Db at 1 meter, ensuring a quiet working environment.

 

Raffreddamento avanzato: Adotta la tecnologia di raffreddamento ad aria-, eliminando la necessità di complessi sistemi di approvvigionamento idrico e migliorando la flessibilità di installazione.

 

Prestazioni robuste: Presenta stabilità della pressione dell'azoto a 0,8 MPa, con tecnologie di protezione a setaccio molecolare integrate-per garantire un funzionamento affidabile a lungo-termine.

 
 
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Modello

LPLN - 10

LPLN - 20

LPLN - 40

LPLN - 80

Produzione

0.3 - 0.4L/H (8 - 10L/giorno)

0.8 - 1L/H (20 - 24L/giorno)

1.6 - 2L/H (40 - 50L/giorno)

3 l/ora (72 l/giorno)

Purezza

Maggiore o uguale al 99%

Maggiore o uguale al 99%

Maggiore o uguale al 99%

Maggiore o uguale al 99%

Voltaggio - Frequenza

220 V CA

   

380VAC 3P 50Hz

Potenza (KW)

2

4.5

7.5

12.5

Superficie (m²)

1

1.5

3

3.5

Dimensioni dell'attrezzatura (mm)

750×850×1700

1150×850×2000

1250×2000×2000

1250×2000×2000

Superficie della stanza richiesta (m²)

>5

>6

>10

>15

Requisito di temperatura ambiente

0 - 30 gradi con buona ventilazione

0 - 30 gradi con buona ventilazione

0 - 30 gradi con buona ventilazione

0 - 30 gradi con buona ventilazione

Rumore a 1m (dB)

<60dB

<60dB

<60dB

<60dB

Volume di azoto (m³/h)

1

2

4

6

Punto di rugiada dell'azoto (gradi)

- 60 grado

- 60 grado

- 60 grado

- 60 grado

Pressione dell'azoto (Mpa)

0.8

0.8

0.8

0.8

Capacità consigliata del serbatoio di azoto liquido (l)

15

50

100

150

 

Nota: frequenza di tensione, altitudine non-standard>1000m, purezzaMaggiore o uguale al 99,9%, deve essere personalizzato;
Le apparecchiature superiori a 100 l/h sono personalizzate in base alle condizioni del sito del cliente.

 

 

Scenari applicativi:

 

RM superconduttiva:Fornisce gli ambienti stabili a bassa temperatura- necessari per i magneti superconduttori nei sistemi MRI, garantendo l'accuratezza dell'immagine e la stabilità dell'apparecchiatura.

Repository di esempio:Ideale per la conservazione a temperatura ultra-bassa-di campioni biologici, vaccini ed embrioni, mantenendo l'integrità dei campioni per periodi prolungati.

Aerospaziale:Supporta test a bassa-temperatura di materiali e componenti aerospaziali, verificandone le prestazioni in condizioni di freddo estremo.

Gocciolamento della bevanda:Consente il gocciolamento preciso dell'azoto liquido nella produzione di bevande, migliorando la consistenza e la freschezza senza compromettere il sapore.

Congelamento rapido:Facilita il congelamento rapido dei prodotti alimentari, preservandone i nutrienti, la consistenza e la durata di conservazione riducendo al minimo la formazione di cristalli di ghiaccio.

Semiconduttore elettronico:Garantisce un raffreddamento controllato durante i processi di produzione dei semiconduttori, prevenendo danni termici e migliorando la qualità del prodotto.

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